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Normas DIN – AENOR
DIN EN 62047-2:2007-02

DIN EN 62047-2:2007-02

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 2: Tensile testing method of thin film materials (IEC 62047-2:2006); German version EN 62047-2:2006

Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 2: Méthodes d'essai de traction des matériaux en couche mince (CEI 62047-2:2006); Version allemande EN 62047-2:2006

Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 2: Prüfverfahren zur Zugbeanspruchung bei Dünnschicht-Werkstoffen (IEC 62047-2:2006); Deutsche Fassung EN 62047-2:2006

Fecha:
2017-02 /Active
Equivalencias internacionales:

EN 62047-2 (2006-09)

IEC 62047-2 (2006-08)

Relación con otras normas DIN:
Resumen:
This International Standard specifies the method for tensile testing of thin film materials with length and width under 1 mm and thickness under 10 µm, which are main structural materials for micro-electromechanical systems (MEMS), micromachines and similar devices.
In dieser Norm ist ein Prüfverfahren zur Zugbeanspruchung bei Dünnschicht-Werkstoffen, welche die hauptsächlichen Basiswerkstoffe für Bauteile der Mikrosystemtechnik (MEMS), Mikrobauteilen und ähnliche Bauteile sind, mit Längen und Breiten jeweils kleiner als 1 mm und Dicken kleiner als 10 µm festgelegt.
Keywords:
Components, Materials, Microelectronics, Microsystem techniques, Properties, Samples, Semiconductor devices, Specification (approval), Symbols, System engineering, Tensile strain, Tensile testing, Testing, Testing conditions, Testing devices, Thin films, Thin-film technology
52,9
Idioma Formato

Formato digital

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